3200FS场发射电子显微镜配备了最高加速电压为300kV的场发射电子枪（FEG）和镜筒内置式Ω型能量过滤器，能为广泛的研究领域提供各种全新的解决方案。
镜筒内置式Ω型能量过滤器(omega 过滤器)
镜筒内置式Ω型能量过滤器内置于成像透镜系统，能容易地获得能量过滤像和能量损失谱，同时还能获得与传统电子显微镜同等的放大倍率范围。此外、Ω型过滤器的电子光学系统在设计上最大程度地减少了图像畸变，出厂前还将剩余一点的畸变做了最后的修正。3200FS还采用了高灵敏度的相机系统及图像处理系统（选配件），可以构建元素面分布系统及能量损失谱系统。
新型控制系统
电子枪、电子光学系统、测角台、抽真空系统等电子显微镜基本功能的系统化，实现了高稳定、高性能的控制系统。图像画面和用户界面采用Windows ®*1，可以进行编程操作和附件的集中控制。
新型测角台
系统化的新型测角台内置压电陶瓷驱动机构，使高倍率下的样品移动更加精确。*2.
*1 : 注意事项：Windows是微软公司在美国和其他国家的注册商标。
*2 : 仅有压电元件包括在基本单元中，压电元件的电源为选配件。
技术参数：
物镜极靴*1 | 超高分辨UHR | 高分辨率HR | 高倾斜HT | 高衬度HC |
分辨率 |
点分辨率
晶格分辨率 | 0.17nm
0.1nm | 0.19nm
0.1nm | 0.21nm
0.1nm | 0.26nm
0.14nm |
能量分辨率 | 0.9 eV（零损失FWHM） |
加速电压 | 300kV，200kV,100kV*2 |
最小步长 能量位移 | 100V 最大3,000V (以0.2V为步长) |
电子枪 |
发射体 | ZrO/W(100) 肖特基式 |
亮度 | ≧7×108 A/cm2 ・ sr |
真空度 | 3×10-8Pa |
探针电流 | 探针直径为1nm时，电流在0.5nA以上 |
稳定度 |
加速电压 | 2×10-6/min |
物镜电流 | 1×10-6/min |
过滤器透镜电流 | 1×10-6/min |
物镜 |
焦距 | 2.7 mm | 3.0 mm | 3.5 mm | 3.9 mm |
球差系数 | 0.6 mm | 1.1 mm | 1.4 mm | 3.2 mm |
色差系数 | 1.5 mm | 1.8 mm | 2.2 mm | 3.0 mm |
最小焦距步长 | 1.0 nm | 1.4 nm | 1.5 nm | 4.1 nm |
束斑尺寸 |
TEM 模式 | 2 ～ 5 nmφ | 2～5nmφ | 7～30nmφ |
EDS 模式 | 0.4～1.6nmφ | 0.5～2.4nmφ | 4～20nmφ |
NBD 模式 | 0.4～1.6nmφ | 0.5～2.4nmφ | - |
CBD 模式 | 0.4～1.6nmφ | 0.5 ～2.4nmφ | - |
电子束衍射 |
衍射角(2α) | 1.5 t～20 mrad | - |
取出角 | ±10 ° | - |
倍率 |
MAG 模式 | ×2,500～1,500,000 | ×2,000～1,200,000 | ×1,500～1,200,000 |
LOW MAG 模式 | ×100～3,000 |
SA MAG 模式 | ×8,000～600,000 | ×6,000～500,000 | ×5,000～500,000 |
视野 | 10eV时狭缝宽度60mm(底片上) 2eV时狭缝宽度25mm(底片上) |
相机长度 |
选区电子衍射 | 200～2,000 mm | 250～2,500 mm | 400～3,000 mm |
EELS 散射 |
能量选择 在能量选择狭缝上 | 0.85 μm/eV , 300 kV |
底片上 | 100～220 μm/eV , 300kV |
样品室 |
样品移动范围 (XY/Z) | 2mm/0.2mm | 2mm/0.4mm | 2mm/0.4mm | 2mm/0.4mm |
样品倾斜角 (X/Y) | ±25°/±25°*3 | ±35°/±30°*3 | ±42°/±30°*3 | ±38°/±30°*3 |
EDS*4 |
固体角 | 0.13 sr | 0.09 sr |
取出角 | 25° | 20° |
